2020年光掩膜版行业市场需求及发展潜力分析

光掩膜版是半导体集成电路、显示屏制造中图形底片转移用的高精密工具，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。作为半导体制程中的一环，光掩膜版在半导体产业原材料总成本占比达到将近15%，地位仅次于大硅片。现阶段，光掩膜版被大量应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等电子行业，有着不可替代的重要作用。

在光掩膜板领域，由于我国市场发展起步相对较晚，相关技术水平发展尚不成熟，国内厂商与国外技术存在一定差距。当前在我国市场，光掩膜版的核心技术主要掌握在国外先进企业手中，如日本的HOYA、SKE，韩国的LGMicron、PKL等，这些企业对光掩膜板的关键技术与设备进行了较为严格的封锁，所以导致国内厂商在技术上与国外厂商相比存在较大差距，未来随着市场的持续发展，技术的逐渐成熟，我国光掩膜板产品将会向大尺寸、精细化方向发展。我国光掩膜版制造主要集中在少数企业和和部分科研院所。面板领域，国内能够配套 TFT用光掩膜版的企业只有路维光电和清溢光电，主要针对G8.5以下光掩膜版；在半导体领域，少数企业如无锡华润、无锡中微等只能制造0.13μm以上stepper mask。对于HTM、GTM、PSM等光掩膜版全部依赖进口。光掩膜版是半导体集成电路、显示屏制造中图形底片转移用的高精密工具。据统计，光掩膜版在半导体产业原材料总成本占比14%，仅次于大硅片（32%）。光掩模产业链上游厂商通过提纯、合成等方式生产高纯度石英锭；处于中游的精磨、涂胶、光刻等厂商对石英锭进行深加工，制成光掩膜版；最终光掩膜版在半导体和显示器生产中得到使用。   据中金企信国际咨询公布的《2020-2026年中国光掩膜版市场竞争力分析及投资战略预测研发报告》统计数据显示：2018年全球光掩膜版市场规模为40.40亿美元，同比增长7.73%，预计2020年将达到42亿美元，未来年均复合增速将在1.96%左右。根据摩尔定律，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。集成电路性能与半导体制程紧密联系，技术升级必将带来光掩膜版市场增量。 目前中国大陆的平板显示行业处于快速发展期，发展前景乐观，对掩膜版行业的需求持续增加。据统计，中国大陆平板显示行业掩膜版需求量占全球比重，从2013年的9%上升到2017年的32%。未来随着相关产业进一步向国内转移，国内平板显示行业掩膜版的需求量将持续上升，预计到2021年，中国大陆平板显示行业掩膜版需求量全球占比将达到56%。，从全球市场来看，自2012年以来，全球光掩膜版市场规模持续扩大，从2012年的30.3亿美元发展到2018年，已经增长至40.5亿美元以上，与上一年37.5亿美元的市场规模相比，增长了8.0个百分点，预计发展到2020年，全球光掩膜版市场规模将达到43亿美元以上。而从中国市场来看，近年来随着我国集成电路和半导体产业发展速度的持续加快，对光掩膜版市场需求不断扩大，进而促使了国内光掩膜版市场的进一步发展，未来我国光掩膜版市场仍具有较大发展潜力。2019年全球半导体制造材料销售额约为328亿美元，对应半导体光掩膜版市场规模约 43 亿美元。在半导体工艺提升、全球产能向中国转移等因素的促进作用下，预计2023年中国半导体光掩膜版市场规模增长至75亿元。在光掩膜板领域，由于我国市场发展起步相对较晚，相关技术水平发展尚不成熟，国内厂商与国外技术存在一定差距。当前在我国市场，光掩膜版的核心技术主要掌握在国外先进企业手中，如日本的HOYA、SKE，韩国的LGMicron、PKL等，这些企业对光掩膜板的关键技术与设备进行了较为严格的封锁，所以导致国内厂商在技术上与国外厂商相比存在较大差距，未来随着市场的持续发展，技术的逐渐成熟，我国光掩膜板产品将会向大尺寸、精细化方向发展。

光掩膜版作为半导体制程中的一环，在电子制造行业中有着不可替代的重要作用。光掩膜板行业的发展与下游终端行业的发展趋势密切相关，近年来随着我国集成电路和半导体产业发展速度的持续加快，对光掩膜版市场需求不断扩大，进而促使了国内光掩膜版市场的进一步发展。但就目前来看，国内厂商与国外技术存在一定差距，未来我国光掩膜版市场发展潜力巨大。